Global Soul Limited liyi@gs-smt.com 86-755-27962186
Khi việc thu nhỏ DRAM tiếp tục tiến bộ, các công ty như SK Hynix và Samsung Electronics đang tập trung vào việc phát triển và áp dụng các vật liệu mới.
Theo TheElec, SK Hynix có kế hoạch sử dụng phản quang oxit kim loại thế hệ tiếp theo của Inpria (MOR) trong sản xuất DRAM thế hệ thứ 6 (quá trình 1c, khoảng 10nm),đây là lần đầu tiên MOR được áp dụng cho quá trình sản xuất hàng loạt DRAM.
SK Hynix sản xuất hàng loạt 1c DRAM có năm lớp cực tím (EUV), một trong số đó sẽ được vẽ bằng cách sử dụng MOR, các nguồn tin cho biết."Không chỉ SK Hynix mà cả Samsung Electronics cũng sẽ theo đuổi các vật liệu PR vô cơ như vậy, "ông nói thêm.
Inpria là một công ty con của công ty hóa chất Nhật Bản JSR và là một nhà lãnh đạo trong lĩnh vực chống quang vô cơ.MOR được coi là thế hệ tiếp theo của photoresist tăng cường hóa học (CAR) hiện được sử dụng trong lithography chip tiên tiến.
Ngoài ra, công ty đã làm việc với SK Hynix về nghiên cứu MOR từ năm 2022.SK Hynix trước đây đã nói rằng việc sử dụng sn (base) oxide photoresist sẽ giúp cải thiện hiệu suất của DRAM thế hệ tiếp theo và giảm chi phí.
Báo cáo của TheElec cũng lưu ý rằng Samsung Electronics cũng đang xem xét áp dụng MOR cho 1c DRAM và hiện tại Samsung Electronics áp dụng sáu đến bảy lớp EUV trên 1c DRAM,trong khi Micron chỉ áp dụng một lớp.
